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双靶磁控溅射镀膜仪双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
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单靶磁控光纤绕丝溅射...单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪，专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体，配有带挡板的观察窗，可以观察镀膜过程，挡板则能有效防止观察窗被膜层遮蔽，便于实验的观察记录。腔体上顶开式设计开启方便，易于清理，十分适合实验室使用。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手
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钻石改色净化炉钻石改色净化炉主要应用于钻石首饰和工业领域。在钻石首饰方面，改色净化炉可用于处理色值较差的钻石，将其变得更亮丽、更具魅力。在工业领域，钻石改色净化炉则广泛应用于电子、光学、化工等领域的相关生产制造
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热丝化学气相沉积（H...热丝化学气相沉积（Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD）拥有工艺成熟，设备简单等诸多优点，是工业上应用*多的金刚石薄膜制备方法之一。设计用于合成纳米金刚石涂层，CVD金刚石薄膜，微晶CVD金刚石涂层，石墨烯，碳纳米管（CNTs）和各种其他薄膜涂层
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高真空水冷热蒸发镀膜...高真空蒸发镀膜仪，钨丝篮（或钨舟）用作蒸发源，并且样品台和蒸发源之间的距离是可调的。 该仪器可以稳定地蒸发金属和某些有机物。 采用高真空不锈钢腔体，密封性能好，真空性能好。 该腔室配有观察窗，因此可以看到涂层过程。 采用分子泵系统的**真空10E-5Pa，可有效提高涂层质量，并能满足大多数蒸发涂层实验所需的真空环境
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实验室锂电池卷对卷加...这种全自动卷绕涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜。该设备采用无级变速电机**控制涂膜速度，从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的。刮刀采用全不锈钢材质，重量恒定，可提高涂膜的一致性和均匀性。该设备采用具有真空吸附功能的样品台，可以平稳的吸附样品。同时涂布机具有底部加热功能，加热温度可达120℃，在涂膜过程中实现烤胶功能，从而使膜迅速地干燥，方便收卷操作。
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全自动超声波气氛加热...超声波气氛加热匀胶机是一款直径300mm、灵活的旋转匀胶设备，可通过超声波喷头把胶液喷洒在基片上，进而通过高速旋转使得胶液均匀涂覆在基片上。加热匀胶机也可以单独进行旋涂操作
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透明亚克力匀胶机带滴...CY-SP4-D匀胶机经过小型化设计，整体采用铝合金结构，腔体选用透明亚克力，外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机，*高转速能达到8000转/秒；控制依靠按键和高亮液晶屏，除直接匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶。本仪器在极大的减小了体积的前提下有效的保障了仪器性能和功能，十分适合实验室选购。
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